[发明专利]聚酰胺基膜、其制备方法,以及包括其的覆盖窗和显示装置在审

专利信息
申请号: 202211046811.6 申请日: 2022-08-30
公开(公告)号: CN115725175A 公开(公告)日: 2023-03-03
发明(设计)人: 吴大成;金善焕;李辰雨 申请(专利权)人: SKC株式会社
主分类号: C08L77/10 分类号: C08L77/10;C08J5/18;C08G69/32;G09F9/30
代理公司: 上海弼兴律师事务所 31283 代理人: 徐婕超
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供了一种聚酰胺基膜,其包含聚酰胺基聚合物,并且基于50μm的膜的厚度具有如以下等式1表示的3.4m/N至5.0m/N的RSRA值,该膜具有优异的环刚度、静态弯曲特性和折叠特性,同时确保至少一定水平的机械和光学性能,本发明还公开了该聚酰胺基膜的制备方法,以及包括该膜的覆盖窗和显示装置。等式1RSRA=(RSRMD+RSRTD)/2在等式1中,RSRMD是在室温下以膜的MD方向为纵向方向测量的环刚度值,RSRTD是在室温下以膜的TD方向为纵向方向测量的环刚度值。
搜索关键词: 聚酰胺 制备 方法 以及 包括 覆盖 显示装置
【主权项】:
暂无信息
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