[发明专利]利用半导体激光器实现全息光刻的装置在审

专利信息
申请号: 202211042313.4 申请日: 2022-08-29
公开(公告)号: CN115373229A 公开(公告)日: 2022-11-22
发明(设计)人: 尚向军;牛智川;倪海桥;苏向斌;王国伟;刘汗青;李叔伦;戴德琰 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 张博
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种利用半导体激光器实现全息光刻的装置,可以应用于半导体光电器件技术领域。该装置包括:激光发射组件,检测组件和干涉装置。激光发射组件包括:蓝光激光二极管,准直透镜,驱动/温控模块,光栅构成光栅外腔结构,用于产生并输出单纵模蓝光激光;检测组件,用于实时监测单纵模蓝光激光的光谱和光强;干涉装置,用于利用单纵模蓝光激光对实验样片执行全息光刻工艺。本发明通过光栅外腔结构产生与输出单纵模蓝光激光,并实现了单纵模蓝光激光应用到全息光刻技术,其装置简便,可进行小区域的布拉格光栅制备,适用于分布式反馈激光器研制,促进其产业应用,同时也促进蓝紫光至紫外光半导体激光二极管的研发和应用。
搜索关键词: 利用 半导体激光器 实现 全息 光刻 装置
【主权项】:
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