[发明专利]一种基于偏压和激光共同作用的制备碳基材料薄膜的技术

摘要

本发明涉及一种基于偏压和激光共同作用的制备碳基材料薄膜的技术，传统的微波等离子体化学气相沉积技术相比其他的沉积方法具有沉积薄膜质量高、设备无电极污染、可控性好以及沉积参数稳定等优点，但是其沉积速率较低，致使大批生产相对困难。本发明在微波等离子体化学气相沉积技术的基础上，加装偏置电压与激光辐照两种系统，两者共同作用或在时间上有一定的间隔或周期。这种将激光和偏压与微波等离子体化学气相沉积相结合得到一种新的技术，对将来大批量制备高质量高性能的碳基材料薄膜有十分重要的意义。