[发明专利]一种CVD生产制备设备在审
申请号: | 202210971103.7 | 申请日: | 2022-08-12 |
公开(公告)号: | CN115354306A | 公开(公告)日: | 2022-11-18 |
发明(设计)人: | 黎静;田青林 | 申请(专利权)人: | 江苏实为半导体科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/44 |
代理公司: | 江苏长德知识产权代理有限公司 32478 | 代理人: | 刘传玉 |
地址: | 221300 江苏省徐州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种CVD生产制备设备,涉及CVD生产制备领域,包括处理箱固定安装在反应箱上,其中一个装置箱上固定安装有密封箱,反应装置固定安装在反应箱内部,且反应装置与外部控制装置连接,抽风机固定安装在反应箱上,旋转扇通过旋转齿轮使直齿条上的连接杆在第一弹簧的作用下,使得压气板在处理箱内部进行上下循环移动压气,且旋转齿轮通过旋转扇对加速气体和吸收液的混合吸收,推压头通过第二推移块架使第一旋转杆带动第一推移杆上推移圆头将工件从放置基体上右侧翻转到左侧,推压头通过第一推移块架使第二旋转杆带动第二推移杆上推移圆头将工件从放置基体上左侧翻转到右侧,实现工件在放置基体上的左右翻转。 | ||
搜索关键词: | 一种 cvd 生产 制备 设备 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
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