[发明专利]特征图干扰去除方法和包含该方法的屏摄水印识别方法有效
申请号: | 202210963058.0 | 申请日: | 2022-08-11 |
公开(公告)号: | CN115049837B | 公开(公告)日: | 2022-11-18 |
发明(设计)人: | 田辉;马泽华;张卫明;俞能海;郭玉刚;张志翔 | 申请(专利权)人: | 合肥高维数据技术有限公司;中国科学技术大学 |
主分类号: | G06V10/28 | 分类号: | G06V10/28;G06T1/00;G06V10/44;G06V10/764;G06V30/148;G06V30/162;G06V30/18;G06V30/19 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 230088 安徽省合肥市高新区*** | 国省代码: | 安徽;34 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明特别涉及一种特征图干扰去除方法和包含该方法的屏摄水印识别方法,其中一种特征图干扰去除方法,包括如下步骤:对特征图的原始图像进行自适应二值化处理得到前景图并将前景图作为掩膜图像;根据掩膜图像,以固定步长逐级从外向内进行腐蚀操作;将腐蚀操作后的结果和上一级的掩膜图像进行比较得到插值区域;计算特征图插值区域的均值滤波并将计算结果填充至插值区域;持续上述步骤直至掩膜图像腐蚀到消失,经过多次填充后得到去除干扰后的特征图。本方法可以方便的实现前景图的淡化,从特征图中有效地去除了前景图的干扰。 | ||
搜索关键词: | 特征 干扰 去除 方法 包含 水印 识别 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥高维数据技术有限公司;中国科学技术大学,未经合肥高维数据技术有限公司;中国科学技术大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202210963058.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种手持式三相电能计量表
- 下一篇:屏摄水印识别方法、存储介质及电子设备