[发明专利]一种用于TopCon电池的PECVD设备在审
申请号: | 202210942497.3 | 申请日: | 2022-08-08 |
公开(公告)号: | CN115369384A | 公开(公告)日: | 2022-11-22 |
发明(设计)人: | 庄大伟;乔冠华;冯波;梁博 | 申请(专利权)人: | 江苏龙恒新能源有限公司 |
主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50;C23C16/458;H01L21/673;H01L31/18 |
代理公司: | 南京安藤洋知识产权代理事务所(普通合伙) 32660 | 代理人: | 孙清晓 |
地址: | 223800 江苏省宿*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种用于TopCon电池的PECVD设备,涉及太阳能电池生产设备技术领域。该设备的机体上设有安装座,安装座内形成有若干个用于配合晶片托架设置的安装孔,晶片托架上设有若干根与安装孔配合设置的安装杆,安装杆上开设有若干个等距设置的安装槽,安装座内滑移连接有固定杆,固定杆与安装槽相互适配,安装座内形成有活动腔,活动腔内滑移设有驱动件,在晶片托架受损需要更换时,或者晶片在晶片托架上冷却静置时,可以通过连接组件将晶片托架从设备上卸下,对晶片托架进行更换;更换后的晶片组件能够继续使用投入生产,则无需在晶片生产完成后停机,保证了晶片生产的连续性,另外晶片托架受损时也能够快速将其更换,提高了生产效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 topcon 电池 pecvd 设备 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的