[发明专利]压力控制系统及半导体设备在审
| 申请号： | 202210914440.2 | 申请日： | 2022-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN115164102A | 公开（公告）日： | 2022-10-11 |
| 发明（设计）人： | 董文惠 | 申请（专利权）人： | 拓荆科技股份有限公司 |
| 主分类号： | F17D1/02 | 分类号： | F17D1/02;F17D1/07;F17D3/01;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 荣颖佳 |
| 地址： | 110179 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本申请提供了一种压力控制系统及半导体设备，压力控制系统包括：腔体、压力计、第一调节阀和第二调节阀；压力计用于实时检测腔体内部的压力信号，并将压力信号发送至第一调节阀；通过调整第二调节阀的开度，以使第一调节阀的开度进入预设开度范围，与压力计形成闭环控制，使压力计采集的压力信号达到指定值；预设开度范围包括：压力可控的第一开度范围或者控制精度最好的第二开度范围。本申请通过设置与第一调节阀串联的第二调节阀，能够在第一调节阀的开度过大或过小时，通过调整第二调节阀的开度，使第一调节阀的开度工作于压力可控范围，甚至工作于控制精度最好的开度范围内，而且可以提高不同半导体设备间的一致性。 | ||
| 搜索关键词： | 压力 控制系统 半导体设备 | ||
【主权项】：
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