[发明专利]一种抛光垫的制备方法及化学机械抛光方法

摘要

本申请公开了一种抛光垫的制备方法及化学机械抛光方法，将制备的含有均匀分布的磨粒的胶体倒在抛光垫本体的表面，将含有抛光垫本体和胶体一起加热，并对涂覆有胶体的抛光垫本体进行干燥，最终在抛光垫本体的表面形成胶状磨粒。在干燥过程中，用物体压在抛光垫本体表面，使抛光垫本体表面的磨粒分布均匀。本发明将均匀分布的磨粒的胶体涂抹到抛光垫本体中，进行加热干燥，形成抛光垫，并利用此种抛光垫对反应膜进行研磨，磨粒在打磨时保持稳定和分散，杜绝了自由磨粒团聚现象的发生，同时胶体进行缓冲，也减轻了磨粒对晶片的损伤。