[发明专利]一种静电吸盘及其制备方法在审
| 申请号： | 202210887002.1 | 申请日： | 2022-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN115249639A | 公开（公告）日： | 2022-10-28 |
| 发明（设计）人： | 刘斌 | 申请（专利权）人： | 广东海拓创新技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/683 | 分类号： | H01L21/683 |
| 代理公司： | 北京纽乐康知识产权代理事务所(普通合伙) 11210 | 代理人： | 秦月贞 |
| 地址： | 523000 广东省东莞市*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明公开了一种静电吸盘及制备方法，包括吸附层，所述吸附层包括电介质层和绝缘层，所述电介质层和所述绝缘层通过粘合剂粘接，所述电介质层和所述绝缘层之间设有若干电极组，所述绝缘层的下端设有缓冲层，所述缓冲层的下端设有增强基板。本发明的静电吸盘的设计适应性强，可满足LCD高世代超薄面板的成盒工艺；降低静电吸盘的损伤，提高使用寿命；降低静电吸盘的使用成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 静电 吸盘 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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