[发明专利]一种ECCP干法等离子刻蚀设备的下部电极维护设备与工艺方法有效
| 申请号： | 202210853800.2 | 申请日： | 2022-07-12 |
| 公开（公告）号： | CN115026638B | 公开（公告）日： | 2023-08-29 |
| 发明（设计）人： | 于辉;熊志红;朱峰 | 申请（专利权）人： | 湖北仕上电子科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;B08B3/04 |
| 代理公司： | 武汉尚齐知识产权代理事务所(普通合伙) 42261 | 代理人： | 刘曼 |
| 地址： | 435000 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种ECCP干法等离子刻蚀设备的下部电极维护设备与工艺方法，属于下部电极维护领域，包括一双层承载件，双层承载件的上端面固定设有一清洗筒。本发明的ECCP干法等离子刻蚀设备的下部电极维护设备与工艺方法，具有使用效率高和更换效率高的优点，解决了在对等离子刻蚀设备的下部电极进行维护的过程中，通常需要采用清洗设备配合超纯水对下部电极进行超净清洗，而随着使用，清洗设备中的水质过滤器在使用一段时间后滤芯效果会出现失能现象，在对其更换时只能停滞设备对其进行更换，导致使用效率收到一定的影响，同时在对滤芯更换时需要通过拧下大量用于固定的螺丝，不仅繁琐，还影响对滤芯更换的效率的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 eccp 等离子 刻蚀 设备 下部 电极 维护 工艺 方法 | ||
【主权项】：
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