[发明专利]一种ECCP干法等离子刻蚀设备的下部电极维护设备与工艺方法

说明书

本发明公开了一种ECCP干法等离子刻蚀设备的下部电极维护设备与工艺方法，属于下部电极维护领域，包括一双层承载件，双层承载件的上端面固定设有一清洗筒。本发明的ECCP干法等离子刻蚀设备的下部电极维护设备与工艺方法，具有使用效率高和更换效率高的优点，解决了在对等离子刻蚀设备的下部电极进行维护的过程中，通常需要采用清洗设备配合超纯水对下部电极进行超净清洗，而随着使用，清洗设备中的水质过滤器在使用一段时间后滤芯效果会出现失能现象，在对其更换时只能停滞设备对其进行更换，导致使用效率收到一定的影响，同时在对滤芯更换时需要通过拧下大量用于固定的螺丝，不仅繁琐，还影响对滤芯更换的效率的问题。

技术领域

本发明属于下部电极维护领域，具体涉及一种ECCP干法等离子刻蚀设备的下部电极维护设备与工艺方法。

背景技术

等离子刻蚀机，又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀，是干法刻蚀中最常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。

在对等离子刻蚀设备的下部电极进行维护的过程中，通常需要采用清洗设备配合超纯水对下部电极进行超净清洗，而随着使用，清洗设备中的水质过滤器在使用一段时间后滤芯效果会出现失能现象，在对其更换时只能停滞设备对其进行更换，导致使用效率收到一定的影响，同时在对滤芯更换时需要通过拧下大量用于固定的螺丝，不仅繁琐，还影响对滤芯更换的效率，故而提出一种ECCP干法等离子刻蚀设备的下部电极维护设备与工艺方法来解决上述所提问题。

发明内容

针对现有技术的以上缺陷或改进需求中的一种或者多种，本发明提供了一种ECCP干法等离子刻蚀设备的下部电极维护设备与工艺方法，具有使用效率高和更换效率高的优点。

为实现上述目的，本发明提供一种ECCP干法等离子刻蚀设备的下部电极维护工艺方法，包括如下步骤:

S1.先采用MCT研磨去掉下部电极原有的涂层，随后采用喷砂机并配合60#氧化锆砂，0.3～0.5mp的二氧化碳气体压力对工件进行喷砂处理，使其粗糙度处于5um～10um之间；

S2、再次采用MCT研磨使工件平面度降低至0.5mm以下并采用Sealing(亚克力悬浮液)进行补漏处理，处理完毕后经超纯水清洗和真空烤箱进行清洗和烘干后进行真空包装。

本发明还提供一种ECCP干法等离子刻蚀设备的下部电极维护设备，包括一双层承载件，所述双层承载件的上端面固定设有一清洗筒；以及

一端盖组件和若干个放置组件，若干个所述放置组件每四个为一组的呈环形设置于端盖组件上，所述端盖组件用于对清洗筒顶部进行封闭且用于带动放置组件进行旋转，所述放置组件内用于接纳待清洗件；

二轴联组件，两个所述轴联组件呈对称的设置于所述双层承载件的上端面且均与端盖组件间螺纹连接；

一第一转动电机，所述第一转动电机固定设于双层承载件内且输出端贯穿至双层承载件上方并与其中一个所述轴联组件相连接，两个所述轴联组件之间通过环形链圈进行联动，所述第一转动电机用于带动轴联组件进行旋转，进而带动端盖组件进行升降；

二连接管，两个所述连接管呈对称的连通于清洗筒的外周面；

一水泵，所述水泵设置于其中一个所述连接管上；

二过滤组件，两个所述过滤组件呈平行设置且均与两个连接管相连通并形成并联管路，两个所述过滤组件内均用于接纳滤芯且可进行交替使用；

四固定组件，四个所述固定组件每两个为一组的设置于一个所述过滤组件上，所述固定组件用于对过滤组件进行固定。