[发明专利]一种ECCP干法等离子刻蚀设备的下部电极维护设备与工艺方法

权利要求书

1.一种ECCP干法等离子刻蚀设备的下部电极维护工艺方法，其特征在于，包括如下步骤:

S1.先采用 MCT研磨去掉下部电极原有的涂层，随后采用喷砂机并配合60#氧化锆砂，0.3～0.5mp的二氧化碳气体压力对工件进行喷砂处理，使其粗糙度处于5um～10um之间；

S2、再次采用MCT研磨使工件平面度降低至0.5mm以下并采用Sealing工艺进行处理，在该sealing工艺中，利用亚克力悬浮液进行补漏处理，处理完毕后经超纯水清洗和真空烤箱进行清洗和烘干后进行真空包装；

采用维护设备对下部电极进行超纯水清洗；该设备包括一双层承载件（1），所述双层承载件（1）的上端面固定设有一清洗筒（1a）；以及

一端盖组件（2）和若干个放置组件（3），若干个所述放置组件（3）每四个为一组的呈环形设置于端盖组件（2）上，所述端盖组件（2）用于对清洗筒（1a）顶部进行封闭且用于带动放置组件（3）进行旋转，所述放置组件（3）内用于接纳待清洗件；

二轴联组件（4），两个所述轴联组件（4）呈对称的设置于所述双层承载件（1）的上端面且均与端盖组件（2）间螺纹连接；

一第一转动电机（5），所述第一转动电机（5）固定设于双层承载件（1）内且输出端贯穿至双层承载件（1）上方并与其中一个所述轴联组件（4）相连接，两个所述轴联组件（4）之间通过环形链圈（10）进行联动，所述第一转动电机（5）用于带动轴联组件（4）进行旋转，进而带动端盖组件（2）进行升降；

二连接管（6），两个所述连接管（6）呈对称的连通于清洗筒（1a）的外周面；

一水泵（7），所述水泵（7）设置于其中一个所述连接管（6）上；

二过滤组件（8），两个所述过滤组件（8）呈平行设置且均与两个连接管（6）相连通并形成并联管路，两个所述过滤组件（8）内均用于接纳滤芯且可进行交替使用；

四固定组件（9），四个所述固定组件（9）每两个为一组的设置于一个所述过滤组件（8）上，所述固定组件（9）用于对过滤组件（8）进行固定；

所述端盖组件（2）包括一盖体（21）、一第二转动电机（22）和一转动轴（23），所述盖体（21）设置于所述清洗筒（1a）的上方，所述第二转动电机（22）固定设于所述盖体（21）的上端面且输出端延伸至盖体（21）内，所述转动轴（23）固定设于第二转动电机（22）的输出端上，

所述放置组件（3）包括一连接杆（31）、一安置架（32）、二铰接架（33）、一盖板（34）、二连接轴（35）、一扣环（36）和一弹性扣件（37），所述连接杆（31）固定设于所述转动轴（23）的外周面，所述安置架（32）固定设于连接杆（31）远离转动轴（23）的一端面且两个所述铰接架（33）呈对称的设置于所述安置架（32）的上端面，两个所述连接轴（35）呈对称的设置于盖板（34）的两边侧面且与铰接架（33）之间滑动配合，所述扣环（36）固定设于所述安置架（32）远离连接杆（31）的一端面，所述弹性扣件（37）固定设于所述盖板（34）靠近扣环（36）的一侧且与扣环（36）间相扣接，

所述轴联组件（4）包括一安装架（41）、一链轮（42）和一螺纹杆（43），所述安装架（41）固定设于所述双层承载件（1）的上端面且螺纹杆（43）通过轴承可转动并贯穿的设置于安装架（41）中，所述螺纹杆（43）与盖体（21）之间螺纹连接，所述链轮（42）固定设于所述螺纹杆（43）的下端面，

所述过滤组件（8）包括一过滤管（81）、二阀门（82）、一滤芯固定架（83）和二封盖（84），所述过滤管（81）通过两个阀门（82）与两个所述连接管（6）相连通，所述滤芯固定架（83）从上至下的插设于过滤管（81）中，两个所述封盖（84）分别螺纹连接于滤芯固定架（83）的两端口处，

所述固定组件（9）包括二铰接座（91）、一转轴（92）、一固定架（93）和若干个弹簧（94），两个所述铰接座（91）呈对称的设置于所述过滤管（81）的一边侧面，所述转轴（92）可转动的设置于两个所述铰接座（91）的内部，所述固定架（93）呈L型设计且横平部延伸至滤芯固定架（83）的上方，所述固定架（93）可滑动的设置于所述转轴（92）的外侧，所述弹簧（94）与固定架（93）的内壁与转轴（92）的外侧相固定。

2.根据权利要求1所述的ECCP干法等离子刻蚀设备的下部电极维护工艺方法，其特征在于，所述封盖（84）、安置架（32）和盖板（34）的外侧均开设有供水流穿过的孔部。

3.根据权利要求1所述的ECCP干法等离子刻蚀设备的下部电极维护工艺方法，其特征在于，所述螺纹杆（43）的顶部固定设有一挡块。