[发明专利]一种光栅制作方法及光栅在审

专利信息
申请号: 202210751803.5 申请日: 2022-06-29
公开(公告)号: CN115166882A 公开(公告)日: 2022-10-11
发明(设计)人: 邓辉;段聪;李珍 申请(专利权)人: 长沙韶光铬版有限公司;湖南智信微电子科技有限公司
主分类号: G02B5/18 分类号: G02B5/18
代理公司: 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 代理人: 王浩
地址: 410129 湖*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开了一种光栅制作方法及光栅,光栅制作方法包括:在平面基板上制作微纳高精图形,微纳高精图形具有异构图形加工定位标志;在微纳高精图形上设置保护层;基于异构图形加工定位标志对平面基板的下表面进行加工,以在平面基板的下表面形成凹陷状的异形结构;对形成异形结构的平面基板的下表面进行抛光;去除保护层,并对平面基板进行清洗。微纳高精图形中预置了异构图形加工定位标志,从而便于后续利用寻迹设备来检测异构图形加工定位标志的位置,使得后续加工设备可以根据寻迹的结果完成对平面基板的异形结构的加工;同时,在微纳图形上会覆盖一层保护层,有效的保护微纳高精图形加工中不会受到污染。
搜索关键词: 一种 光栅 制作方法
【主权项】:
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