[发明专利]一种高发射率涂层及其应用在审
| 申请号： | 202210746040.5 | 申请日： | 2022-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN114988896A | 公开（公告）日： | 2022-09-02 |
| 发明（设计）人： | 刘玲;柳彦博;马壮;孟铭煜 | 申请（专利权）人： | 北京理工大学 |
| 主分类号： | C04B35/66 | 分类号： | C04B35/66;C04B35/44;C04B35/50;C04B35/622;B64C1/00 |
| 代理公司： | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人： | 谢春超 |
| 地址： | 100081 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明属于涂料技术领域，具体涉及一种高发射率涂层及其应用。本发明提供了一种高发射率涂层，所述高发射率涂层的制备方法包括以下步骤：将高熵陶瓷材料造粒，得到球形高熵陶瓷材料；以球形高熵陶瓷材料为原料采用等离子喷涂法在基体表面制备高发射率涂层。本发明以高熵陶瓷材料制备高发射率涂层，通过高熵化得到的高构型熵可以稳定高熵固溶体相，促进金属元素间的相容性，从而得到在高温下稳定的单相结构，保证其在高温下不会发生相变。同时，高熵陶瓷材料的高温稳定性能使高发射率涂层的发射率在高温下保持稳定，不会随着温度的升高而显著降低。显著提高了高发射率涂层的高温稳定性进而保证高发射率涂层的高温发射率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 发射 涂层 及其 应用 | ||
【主权项】：
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