[发明专利]一种超疏水黑磷纳米片的制备和应用在审
申请号: | 202210720371.1 | 申请日: | 2022-06-23 |
公开(公告)号: | CN115072679A | 公开(公告)日: | 2022-09-20 |
发明(设计)人: | 喻学锋;吴列;杨帆;康翼鸿 | 申请(专利权)人: | 武汉中科先进材料科技有限公司 |
主分类号: | C01B25/02 | 分类号: | C01B25/02;B82Y40/00;B82Y15/00;B82Y30/00 |
代理公司: | 武汉高得专利代理事务所(普通合伙) 42268 | 代理人: | 杨如增 |
地址: | 430000 湖北省武汉市经济技术开发区20*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明公开了一种超疏水黑磷纳米片的制备和应用。所述超疏水黑磷纳米片,为黑磷晶体边球磨剥离的同时边通过亲电试剂修饰得到的超疏水黑磷纳米材料。本发明采用卤代烃修饰黑磷纳米片,一方面提高了黑磷纳米片的抗氧化能力,另一方面也赋予了黑磷纳米片防水、自清洁、油水分离等新功能,使其能应用于更多领域。 | ||
搜索关键词: | 一种 疏水 黑磷 纳米 制备 应用 | ||
【主权项】:
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