[发明专利]一种二极管酸洗装置及酸洗工艺在审
| 申请号： | 202210691627.0 | 申请日： | 2022-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN114999965A | 公开（公告）日： | 2022-09-02 |
| 发明（设计）人： | 石宏彬;申涛 | 申请（专利权）人： | 石宏彬 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L21/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 434000 湖北省荆州市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明涉及二极管制造技术领域，具体为一种二极管酸洗装置及酸洗工艺，本发明所述的一种二极管酸洗装置，包括酸洗池和收集筐，所述酸洗池的一侧侧壁开设有进液口，另一侧开设有出液口，酸洗池内部设有酸洗液；所述收集筐设置在酸洗池内部；所述收集筐的下端连接有电动推杆，收集筐的正上方设有排液筒；所述电动推杆固定在所述酸洗池的池底；本发明通过在收集筐的正上方安装排液筒，使得收集筐内的二极管能够在酸洗时更为充分，而且还能够在二极管酸洗好之后，使收集筐内和二极管表面附着的酸洗液得到排出，不仅防止酸洗液对车间造成污染，而且也缩短了清理酸洗液的时间，提高了二极管生产的工作环境和工作效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 二极管 酸洗 装置 工艺 | ||
【主权项】：
暂无信息
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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