[发明专利]蒸发源装置在审
| 申请号： | 202210522023.3 | 申请日： | 2022-05-13 |
| 公开（公告）号： | CN114875364A | 公开（公告）日： | 2022-08-09 |
| 发明（设计）人： | 孙亮;杨俊 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 杨瑞 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供一种蒸发源装置，包括真空室以及位于真空室内的基座、至少一个真空盒、至少一个控制阀门；至少一个真空盒设置于基座上，真空盒内设置有坩埚；真空盒与控制阀门连接；控制阀门包括相对设置的第一管口和第二管口，第一管口与真空盒相连通，第二管口与真空室相连通；本发明通过将坩埚设置于真空盒内，可以阻挡飞溅的原料蒸镀至基板，通过使真空盒内产生的蒸镀源通过控制阀门进入真空室内，可以通过改变控制阀门的开合程度，从而控制蒸气流量，从而在蒸发镀膜过程中时刻控制镀膜的厚度，提高镀膜质量；还可以使原料均匀反应，避免产生白色颗粒影响薄膜的粗糙度。 | ||
| 搜索关键词： | 蒸发 装置 | ||
【主权项】：
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