[发明专利]一种UV光致可剥离胶及其制备方法有效
| 申请号： | 202210446843.9 | 申请日： | 2022-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN114672276B | 公开（公告）日： | 2023-08-22 |
| 发明（设计）人： | 刘少杰;范岩超;邢旭腾;张翠枝;申洪刚;王辉;王思佳 | 申请（专利权）人： | 河北科技大学 |
| 主分类号： | C09J175/16 | 分类号： | C09J175/16;C09J133/08;C08G18/36;C08G18/67;C08F220/18;C08F220/20;C08F220/14;C08F220/06;C08F220/30;C08F220/36 |
| 代理公司： | 河北国维致远知识产权代理有限公司 13137 | 代理人： | 任青 |
| 地址： | 050000 河北省石*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本发明涉及胶粘剂技术领域，尤其涉及一种UV光致可剥离胶及其制备方法，该UV光致可剥离胶由丙烯酸酯共聚物基胶、聚氨酯丙烯酸酯预聚物、丙烯酸酯单体和溶剂制备得到，其中，所述丙烯酸酯共聚物基胶由过氧化苯甲酰、丙烯酸异辛酯、丙烯酸羟乙酯、丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸、4‑丙烯酰氧基二苯甲酮和甲基丙烯酸缩水甘油酯改性季铵盐制备得到；所述聚氨酯丙烯酸酯预聚物由大豆油基多元醇、多异氰酸酯、二月桂酸二丁烯、对叔丁邻苯二酚和季戊四醇三丙烯酸酯制备得到。本发明提供的UV光致可剥离胶中无任何游离单体，在UV光固化前具有较高的粘合力，UV照射后残胶量低，并且具有高减粘性和强抗静电性，能够满足薄硅晶片的切割要求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 uv 光致可 剥离 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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