[发明专利]外延生长装置在审
| 申请号： | 202210428945.8 | 申请日： | 2022-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN114855271A | 公开（公告）日： | 2022-08-05 |
| 发明（设计）人： | 王树林;曹建伟 | 申请（专利权）人： | 浙江求是半导体设备有限公司 |
| 主分类号： | C30B25/12 | 分类号： | C30B25/12;C30B25/14;C30B25/16;C30B25/08 |
| 代理公司： | 杭州华进联浙知识产权代理有限公司 33250 | 代理人： | 高礼强 |
| 地址： | 311100 浙江省杭州市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请涉及外延生长装置，外延生长装置包括炉体，炉体设有反应腔，反应腔内分别设有水平设置的第一反应基座和第二反应基座，第一反应基座和第二反应基座沿着水平方向间隔设置。炉体还设有分别连通反应腔的第一进气部、第二进气部和出气部，第一反应基座设于第一进气部和出气部之间，第二反应基座设于第二进气部和出气部之间；反应介质能够分别通过第一进气部和第二进气部进入反应腔，并通过出气部离开反应腔。本申请提供的外延生长装置，解决了现有的外延炉的外延层产出效率过低的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 外延 生长 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江求是半导体设备有限公司，未经浙江求是半导体设备有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202210428945.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种基于多层语义恢复的网络协议软件分析方法
- 下一篇：缺失轨迹填补方法及系统
