[发明专利]一种碳化硅晶片兆声清洗工艺有效
| 申请号： | 202210387173.8 | 申请日： | 2022-04-13 |
| 公开（公告）号： | CN114887987B | 公开（公告）日： | 2023-05-02 |
| 发明（设计）人： | 贺贤汉;张城;陈有生;赖章田 | 申请（专利权）人： | 上海申和投资有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/12 | 分类号： | B08B3/12;B08B13/00 |
| 代理公司： | 铜陵市天成专利事务所(普通合伙) 34105 | 代理人： | 李坤 |
| 地址： | 201900 上海市宝*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种碳化硅晶片兆声清洗工艺，先将待清洗的碳化硅晶片置于旋转式兆声波清洗设备，并利用清洗液进行间歇式兆声清洗；对经过兆声清洗后的碳化硅晶片使用纯水进行清洗、烘干、封装并储存。本发明对碳化硅晶片在频率为2000KHz的兆声清洗下，只需清洗7.7min即可清洗干净，清洗效率高(现有兆声清洗最少20min)，清洗效果好，能够最大限度降低对碳化硅晶片表面的损伤，应用价值高，实施效果好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 碳化硅 晶片 清洗 工艺 | ||
【主权项】：
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