[发明专利]双反射面天线位姿分析系统在审
| 申请号： | 202210383008.5 | 申请日： | 2022-04-13 |
| 公开（公告）号： | CN114812523A | 公开（公告）日： | 2022-07-29 |
| 发明（设计）人： | 魏鹏鹏;柴艳红;刘兰波;童科娜;仇志;鹿昌剑 | 申请（专利权）人： | 上海航天电子通讯设备研究所 |
| 主分类号： | G01C15/00 | 分类号： | G01C15/00;G01B11/27;H01Q15/16 |
| 代理公司： | 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 | 代理人： | 胡晶 |
| 地址： | 201109 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种双反射面天线位姿分析系统，包括：双反射面天线、激光跟踪测量模块、数据拟合模块、轴线获取模块以及同轴度分析模块；双反射面天线包括主反射面和副反射面，主反射面与副反射面通过多根连杆相连；激光跟踪测量模块，用于测量主反射面和副反射面，以获得双反射面天线的位姿数据。数据拟合模块，用于分析激光跟踪测量系统获得的双反射面天线位姿数据以获得主反射面圆周和副反射面圆周；轴线获取模块，用于根据主反射面圆周分得主反射面的轴线以及根据副反射面圆周获得副反射面的轴线；同轴度分析模块，用于通过轴线以及主反射面、副反射面坐标系分析同轴度。本发明能够帮助实现双反射面天线的精准装配。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 天线 分析 系统 | ||
【主权项】：
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