[发明专利]双反射面天线位姿分析系统在审

专利信息
申请号: 202210383008.5 申请日: 2022-04-13
公开(公告)号: CN114812523A 公开(公告)日: 2022-07-29
发明(设计)人: 魏鹏鹏;柴艳红;刘兰波;童科娜;仇志;鹿昌剑 申请(专利权)人: 上海航天电子通讯设备研究所
主分类号: G01C15/00 分类号: G01C15/00;G01B11/27;H01Q15/16
代理公司: 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 代理人: 胡晶
地址: 201109 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 反射 天线 分析 系统
【说明书】:

发明提供了一种双反射面天线位姿分析系统,包括:双反射面天线、激光跟踪测量模块、数据拟合模块、轴线获取模块以及同轴度分析模块;双反射面天线包括主反射面和副反射面,主反射面与副反射面通过多根连杆相连;激光跟踪测量模块,用于测量主反射面和副反射面,以获得双反射面天线的位姿数据。数据拟合模块,用于分析激光跟踪测量系统获得的双反射面天线位姿数据以获得主反射面圆周和副反射面圆周;轴线获取模块,用于根据主反射面圆周分得主反射面的轴线以及根据副反射面圆周获得副反射面的轴线;同轴度分析模块,用于通过轴线以及主反射面、副反射面坐标系分析同轴度。本发明能够帮助实现双反射面天线的精准装配。

技术领域

本发明涉及双反射面天线装配工艺方法,具体地,涉及一种双反射面天线位姿分析系统。

背景技术

双反射面天线是卫星对地数据传输通道的重要组成部分,高增益反射面数传天线是目前卫星数传分系统采用的主要天线形式,多采用环焦双反射抛物面天线形式,天线的电性能指标依靠设计、仿真、加工、装配、调试、测试、试验等各环节控制保证。

装配环节是天线生产过程的重要环节之一,主反射器和副反射面之间的装配精度直接影响反射面天线的增益、方向图、波束指向精度、副瓣电平等主要电性能指标,因此需要对双反射面天线位姿分析方法及调整技术进行研究。

发明内容

针对现有技术中的缺陷,本发明的目的是提供一种双反射面天线位姿分析系统。

根据本发明提供的双反射面天线位姿分析系统,包括:双反射面天线、激光跟踪测量模块、数据拟合模块、轴线获取模块以及同轴度分析模块;

所述双反射面天线包括主反射面和副反射面,所述主反射面与副反射面通过多根连杆相连;

所述激光跟踪测量模块,用于测量主反射面和副反射面,以获得所述双反射面天线的位姿数据。

所述数据拟合模块,用于分析激光跟踪测量系统获得的双反射面天线位姿数据以获得主反射面圆周和副反射面圆周;

所述轴线获取模块,用于根据所述主反射面圆周分得所述主反射面的轴线以及根据所述副反射面圆周获得所述副反射面的轴线;

所述同轴度分析模块,用于通过所述轴线以及所述主反射面、所述副反射面坐标系分析同轴度。

优选地,所述激光跟踪测量模块采用通过反射球进行单点测量的测量方式。

优选地,所述激光跟踪测量模块,用于对主反射面的周边及底平面进行测量,从而获得主反射面的圆周点数据及底平面点数据。

优选地,所述激光跟踪测量系统,用于对所述副反射面的周边及上端面进行测量,从而获得副反射面的圆周点数据及上端平面点数据。

优选地,所述数据拟合模块,用于拟合所述主反射面的底平面点数据,从而获得主反射面的底平面以及将主反射面的圆周点数据投影到底平面生成第一投影点,进而拟合所有第一投影点,即可得到所述主反射面圆周。

优选地,所述数据拟合模块,用于拟合副反射面的上端平面点数据,从而获得副反射面的上端平面以及将副反射面的圆周点数据投影到上端平面生成第二投影点,进而拟合所有第二投影点,即可得到所述副反射面圆周。

优选地,所述轴线获取模块,用于在主反射面圆周中心插入一点,采用通过点并垂直于对象的方式插入轴线,实现在所述主反射面圆周中心插入第一轴线,所述第一轴线为主反射面轴线。

优选地,所述轴线获取方法,用于在副反射面圆周中心插入一点,采用通过点并垂直于对象的方式插入轴线,实现在副反射面圆周中心插入第二轴线,所述第二轴线为副反射面轴线。

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