[发明专利]双反射面天线位姿分析系统

权利要求书

1.一种双反射面天线位姿分析系统，其特征在于，包括：双反射面天线、激光跟踪测量模块、数据拟合模块、轴线获取模块以及同轴度分析模块；

所述双反射面天线包括主反射面和副反射面，所述主反射面与副反射面通过多根连杆相连；

所述激光跟踪测量模块，用于测量主反射面和副反射面，以获得所述双反射面天线的位姿数据。

所述数据拟合模块，用于分析激光跟踪测量系统获得的双反射面天线位姿数据以获得主反射面圆周和副反射面圆周；

所述轴线获取模块，用于根据所述主反射面圆周分得所述主反射面的轴线以及根据所述副反射面圆周获得所述副反射面的轴线；

所述同轴度分析模块，用于通过所述轴线以及所述主反射面、所述副反射面坐标系分析同轴度。

2.根据权利要求1所述的双反射面天线位姿分析系统，其特征在于，所述激光跟踪测量模块采用通过反射球进行单点测量的测量方式。

3.根据权利要求1所述的双反射面天线位姿分析系统，其特征在于，所述激光跟踪测量模块，用于对主反射面的周边及底平面进行测量，从而获得主反射面的圆周点数据及底平面点数据。

4.根据权利要求1所述的双反射面天线位姿分析系统，其特征在于，所述激光跟踪测量系统，用于对所述副反射面的周边及上端面进行测量，从而获得副反射面的圆周点数据及上端平面点数据。

5.根据权利要求3所述的双反射面天线位姿分析系统，其特征在于，所述数据拟合模块，用于拟合所述主反射面的底平面点数据，从而获得主反射面的底平面以及将主反射面的圆周点数据投影到底平面生成第一投影点，进而拟合所有第一投影点，即可得到所述主反射面圆周。

6.根据权利要求1所述的双反射面天线位姿分析系统，其特征在于，所述数据拟合模块，用于拟合副反射面的上端平面点数据，从而获得副反射面的上端平面以及将副反射面的圆周点数据投影到上端平面生成第二投影点，进而拟合所有第二投影点，即可得到所述副反射面圆周。

7.根据权利要求5所述的双反射面天线位姿分析系统，其特征在于，所述轴线获取模块，用于在主反射面圆周中心插入一点，采用通过点并垂直于对象的方式插入轴线，实现在所述主反射面圆周中心插入第一轴线，所述第一轴线为主反射面轴线。

8.根据权利要求6所述的双反射面天线位姿分析系统，其特征在于，所述轴线获取方法，用于在副反射面圆周中心插入一点，采用通过点并垂直于对象的方式插入轴线，实现在副反射面圆周中心插入第二轴线，所述第二轴线为副反射面轴线。

9.根据权利要求1所述的双反射面天线位姿分析系统，其特征在于，所述同轴度分析模块，用于在主反射面中心建立坐标系A，在副反射面中心建立坐标系B，将坐标系B的Z_B轴与副反射面的轴线重合，将坐标系A的Z_A轴与主反射面的轴线重合，以获得主反射面和副反射面的同轴度及相对距离误差。