[发明专利]一种用于衬底外延的反应器在审
| 申请号： | 202210358569.X | 申请日： | 2022-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN114686974A | 公开（公告）日： | 2022-07-01 |
| 发明（设计）人： | 丁欣 | 申请（专利权）人： | 上海埃延半导体有限公司 |
| 主分类号： | C30B25/08 | 分类号： | C30B25/08;C30B25/10;C30B25/14;C30B28/14;C23C16/44;C30B29/06;C30B29/40 |
| 代理公司： | 上海智晟知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31313 | 代理人： | 张东梅 |
| 地址： | 200131 上海市浦东新区自*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明总的来说涉及半导体制造技术领域，提出一种用于衬底外延的反应器，包括：反应腔室；加热器，其被配置为对所述反应腔室进行加热；风冷流道，其位于所述加热器以及所述反应腔室之间；以及换热器，其布置于所述风冷流道上，其中所述换热器被配置为生成冷却气体并且驱动所述冷却气体沿所述风冷流道流动以便冷却所述反应腔室以及所述加热器。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 衬底 外延 反应器 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海埃延半导体有限公司，未经上海埃延半导体有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202210358569.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
