[发明专利]纳米片器件的结构、制造方法及电子设备在审
申请号: | 202210339960.5 | 申请日: | 2022-04-01 |
公开(公告)号: | CN114975590A | 公开(公告)日: | 2022-08-30 |
发明(设计)人: | 曾健忠 | 申请(专利权)人: | 天狼芯半导体(成都)有限公司 |
主分类号: | H01L29/06 | 分类号: | H01L29/06;H01L29/78;H01L21/336 |
代理公司: | 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 | 代理人: | 阳方玉 |
地址: | 610000 四川省成都*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 一种纳米片器件的结构、制造方法及电子设备,属于半导体技术领域,通过包括第一纳米片堆叠部以及栅极结构;第一纳米片堆叠部在水平面呈H型,包括平行交替设置的多个牺牲层和多个纳米片层;其中,在纳米片层中,第一半导体类型区、第二半导体类型区以及第三半导体类型区沿横向方向依次排列,且第二半导体类型区位于H型的横线位置的中间;在垂直方向上与第二半导体类型区重叠的牺牲层的区域镂空,且在镂空区域环绕第二半导体类型区设置栅极结构;从而避免了纳米线的复杂制作工艺,简化了器件设计并降低了成本。且第二半导体类型区的宽长比可调,使得纳米片功率器件的栅极宽长比可调,提高了纳米片功率器件设计的灵活性。 | ||
搜索关键词: | 纳米 器件 结构 制造 方法 电子设备 | ||
【主权项】:
暂无信息
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