[发明专利]一种阵列基板、显示装置以及制备方法在审

专利信息
申请号: 202210294382.8 申请日: 2022-03-23
公开(公告)号: CN114678479A 公开(公告)日: 2022-06-28
发明(设计)人: 张渊明;郭晖 申请(专利权)人: 北京京东方技术开发有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L27/12;H01L27/32;H01L51/56;H01L21/84
代理公司: 北京华夏泰和知识产权代理有限公司 11662 代理人: 吴雪
地址: 100176 北京市大兴区*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明属于显示技术领域,尤其涉及一种阵列基板、显示装置以及制备方法,该阵列基板具体包括:衬底基板;多个隔离柱,间隔设置于所述衬底基板上,并且每相邻两个所述隔离柱之间均限定出一个像素区域;以及多个微纳结构,至少呈周期性排列于每个所述隔离柱朝向所述像素区域的壁面上的第一区域内,所述第一区域为像素液滴顶部以上的区域;每个所述微纳结构均包括:层叠设置的第一疏水结构和第二疏水结构;综上所述,本申请采用上述结构的配合制备出超疏水结构,以使得像素区域的侧壁面与像素区域的下壁面的表面张力不同,从而保证像素液滴被聚集于像素区域内,而遗留于隔离柱的侧壁面上较少,有效改善像素串扰。
搜索关键词: 一种 阵列 显示装置 以及 制备 方法
【主权项】:
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