[发明专利]用于化学机械抛光的声学监控和传感器在审
| 申请号： | 202210211119.8 | 申请日： | 2022-03-03 |
| 公开（公告）号： | CN115008334A | 公开（公告）日： | 2022-09-06 |
| 发明（设计）人： | N·A·威斯韦尔;S·布尔曼德;D·J·本韦格努;T·H·奥斯特海德;B·A·斯韦德克 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | B24B37/005 | 分类号： | B24B37/005;B24B37/013;B24B37/10;B24B37/34;G01N29/04;G01N29/24 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 侯颖媖;张鑫 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 化学机械抛光装置包括：工作台，该工作台用于支撑抛光垫；承载头，该承载头用于将基板的表面固持抵靠在抛光垫上；电机，该电机用于生成工作台与承载头之间的相对运动，以便抛光基板上的上覆层；原位声学监控系统；以及控制器。在一些实现中，原位声学监控系统包括：声学信号发生器，该声学信号发生器用于发射声学信号；以及声学信号传感器，该声学信号传感器接收从基板的表面反射的声学信号。控制器被配置为基于来自原位声学监控系统的测量结果来检测由于对基板的抛光而导致的下卧层的暴露。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 化学 机械抛光 声学 监控 传感器 | ||
【主权项】：
暂无信息
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