[发明专利]一种二氧化硅介电层化学机械抛光液及其应用在审
| 申请号： | 202210192100.3 | 申请日： | 2022-03-01 |
| 公开（公告）号： | CN116731613A | 公开（公告）日： | 2023-09-12 |
| 发明（设计）人： | 崔晓坤;卞鹏程;王庆伟;徐贺;李国庆;王瑞芹;王永东;卫旻嵩 | 申请（专利权）人： | 万华化学集团电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/3105 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 264006 山东省*** | 国省代码： | 山东;37 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明公开了一种二氧化硅介电层化学机械抛光液及其应用，所述化学机械抛光液包含如下质量百分含量的组分：0.1%‑2%的氧化铈磨料、0.01%‑0.5%的抗氧化剂，其余部分为去离子水。本发明的化学机械抛光液具有高的二氧化硅去除速率、表面质量好、稳定性优异等特点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 二氧化硅 介电层 化学 机械抛光 及其 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
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