[发明专利]保护膜组件、光掩膜版、光刻机及由其制作的产品在审
| 申请号： | 202210119351.9 | 申请日： | 2022-02-08 |
| 公开（公告）号： | CN114488682A | 公开（公告）日： | 2022-05-13 |
| 发明（设计）人： | 穆钰平 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F1/64 | 分类号： | G03F1/64 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 谭玲玲 |
| 地址： | 430074 湖北省武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种保护膜组件、光掩膜版、光刻机及由其制作的产品，保护膜组件适用于光掩膜版，包括保护膜和用于支撑保护膜的支撑架，支撑架包括：第一架体，第一架体设置于光掩膜版的基底上；第二架体，第二架体上安装有保护膜；其中，第一架体和第二架体可拆卸地连接。本发明的保护膜组件解决了现有技术中的光掩膜版上的保护膜不便于拆装的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 保护膜 组件 光掩膜版 光刻 制作 产品 | ||
【主权项】：
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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