[发明专利]一种控制三维模型贴图阵列的方法在审

专利信息
申请号: 202210098630.1 申请日: 2022-01-27
公开(公告)号: CN114677471A 公开(公告)日: 2022-06-28
发明(设计)人: 郑哲 申请(专利权)人: 浙江慧脑信息科技有限公司
主分类号: G06T17/00 分类号: G06T17/00;G06T5/50;G06T3/40
代理公司: 杭州浙科专利事务所(普通合伙) 33213 代理人: 孙孟辉
地址: 310012 浙江省杭州*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开一种控制三维模型贴图阵列的方法,由三维模型、若干贴图和对应的阵列参数组成,阵列参数由缩放参数、阵列偏移参数、重复参数、间距参数、阵列旋转参数、单图旋转参数和单图偏移参数构成;所述三维模型的每个顶点数据中都包含UV坐标,所述缩放参数、阵列偏移参数和阵列旋转参数通过对UV坐标进行缩放、旋转、平移转换后,再根据重复参数和间距参数进行选择性剔除,再根据单图旋转参数和单图偏移参数进行旋转和平移转换后作为每个顶点从贴图取样的坐标,使三维模型的表面呈现出对应的图案效果。本发明不但实现了贴图的缩放和偏移,还实现了贴图间距、重复个数、整体旋转、单图旋转、单图偏移等效果,特别适合模型贴图的DIY。
搜索关键词: 一种 控制 三维 模型 贴图 阵列 方法
【主权项】:
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