[发明专利]一种控制三维模型贴图阵列的方法

说明书

本发明公开一种控制三维模型贴图阵列的方法，由三维模型、若干贴图和对应的阵列参数组成，阵列参数由缩放参数、阵列偏移参数、重复参数、间距参数、阵列旋转参数、单图旋转参数和单图偏移参数构成；所述三维模型的每个顶点数据中都包含UV坐标，所述缩放参数、阵列偏移参数和阵列旋转参数通过对UV坐标进行缩放、旋转、平移转换后，再根据重复参数和间距参数进行选择性剔除，再根据单图旋转参数和单图偏移参数进行旋转和平移转换后作为每个顶点从贴图取样的坐标，使三维模型的表面呈现出对应的图案效果。本发明不但实现了贴图的缩放和偏移，还实现了贴图间距、重复个数、整体旋转、单图旋转、单图偏移等效果，特别适合模型贴图的DIY。

技术领域

本发明涉及三维模型制作和展示领域，具体是一种三维模型贴图阵列模式的控制方法。

背景技术

传统的三维模型贴图的阵列属性由贴图缩放参数和阵列偏移参数组成，用于展示四方连续的纹理，利用了重复显示的方法减小贴图文件的大小和提高纹理的清晰度。但这种方法不能控制图案在水平和垂直方向重复的个数、图案之间的距离、阵列的整体旋转角度、单个图案以自身为中心的旋转角度、单个图案在阵列网格内偏移的距离等需求，这种需求在实际应用中，特别是在原有底图上叠加图案时，是真实存在的，如果采样先在其它绘图软件将整个阵列效果人工预制好再贴到模型上，那么贴图文件就会很大或者清晰度降低，并且无法方便地修改阵列的效果。

发明内容

本发明的目的在于提供一种控制三维模型贴图阵列的方法，利用多个阵列设置参数使同一张贴图产生图案大小、图案间距、阵列行数和列数、阵列旋转、单图旋转、单图偏移等丰富的阵列效果，且各个参数可动态调整并实时展现效果，特别适合对三维模型贴图效果进行DIY。

本发明的目的可以通过以下技术方案实现：

一种控制三维模型贴图阵列的方法，用于三维模型贴图，包括若干组贴图和对应的阵列参数组成，所述的阵列参数包含缩放参数、阵列偏移参数、阵列旋转参数、阵列个数参数、间距参数、单图旋转参数和单图偏移参数；所述三维模型的每个顶点数据中都包含UV坐标，即该顶点从贴图取样对应的初始位置坐标，包含水平方向的x值和垂直方向的y值；根据所述缩放参数、阵列偏移参数和阵列旋转参数通过对初始位置坐标进行缩放、旋转、平移转换后，再根据阵列个数参数和阵列间距参数进行选择性剔除，再根据单图旋转参数和单图偏移参数进行旋转和平移转换后获得新取样坐标，根据取样新坐标从贴图上对应的位置获取颜色信息表现在三维模型的表面，使三维模型的表面按阵列参数呈现出阵列的图案效果。

进一步的，还设有对称开启参数，其开启状态分为不开启、左右对称、上下对称和左右上下对称；当对称开启参数开启左右对称时，通过对初始位置坐标的x值进行换算，使三维模型的表面图案呈左右对称显示；当对称开启参数开启上下对称时，通过对初始位置坐标的y值进行换算，使使三维模型的表面图案呈上下对称显示；当对称开启参数开启左右上下对称时，通过对初始位置坐标的x值和y值都进行换算，使使三维模型的表面图案呈左右上下均对称显示。

进一步的，所述的贴图包括纹理贴图和特征贴图，纹理贴图取样得到的为颜色信息，特征贴图取样得到的为法线、高度、金属度或平滑度等特征信息，同一组内纹理贴图（21）和特征贴图采样同样的换算后的新取样坐标。

进一步的，所述间距参数包括水平间距参数jx和垂直间距参数jy，用于设定模型表面显示的阵列中每个图案之间的横向间距和纵向间距。

进一步的，所述的阵列个数参数包括水平阵列个数参数rx和垂直阵列个数参数ry，用于设定模型表面显示的阵列的列数和行数。

进一步的，所述的单图旋转参数，用于设定阵列中每一个贴图以自身为中心进行旋转的角度；而所述的阵列旋转参数，用于设定整个贴图阵列围绕阵列中心进行旋转的角度；两者配合使用还用于实现阵列旋转而单图反旋转从而保持单图对用户保持不旋转的效果。

进一步的，所述的缩放参数包括水平缩放参数sx和垂直缩放参数sy，使贴图的每个图案分别在水平和垂直方向进行缩放变形。