[发明专利]一种控制三维模型贴图阵列的方法

权利要求书

1.一种控制三维模型贴图阵列的方法，用于三维模型（1）贴图，包括若干组贴图（2）和对应的阵列参数（3）组成，其特征在于：所述的阵列参数包含缩放参数（31）、阵列偏移参数（32）、阵列旋转参数（33）、阵列个数参数（34）、间距参数（35）、单图旋转参数（36）和单图偏移参数（37）；所述三维模型（1）的每个顶点数据中都包含UV坐标，即该顶点从贴图（2）取样对应的初始位置坐标（11），包含水平方向的x值和垂直方向的y值；根据所述缩放参数（31）、阵列偏移参数（32）和阵列旋转参数（33）通过对初始位置坐标（11）进行缩放、旋转、平移转换后，再根据阵列个数参数（34）和阵列间距参数（35）进行选择性剔除，再根据单图旋转参数（36）和单图偏移参数（37）进行旋转和平移转换后获得新取样坐标（12），根据取样新坐标从贴图（2）上对应的位置获取颜色信息表现在三维模型（1）的表面，使三维模型（1）的表面按阵列参数呈现出阵列的图案效果。

2.根据权利要求1所述的控制三维模型贴图阵列的方法，其特征在于：还设有对称开启参数，其开启状态分为不开启、左右对称、上下对称和左右上下对称；当对称开启参数开启左右对称时，通过对初始位置坐标（11）的x值进行换算，使三维模型（1）的表面图案呈左右对称显示；当对称开启参数开启上下对称时，通过对初始位置坐标（11）的y值进行换算，使使三维模型（1）的表面图案呈上下对称显示；当对称开启参数开启左右上下对称时，通过对初始位置坐标（11）的x值和y值都进行换算，使使三维模型（1）的表面图案呈左右上下均对称显示。

3.根据权利要求1所述的控制三维模型贴图阵列的方法，其特征在于：所述的贴图（2）包括纹理贴图（21）和特征贴图（22），纹理贴图（21）取样得到的为颜色信息，特征贴图（22）取样得到的为法线、高度、金属度或平滑度等特征信息，同一组内纹理贴图（21）和特征贴图（22）采样同样的换算后的新取样坐标。

4.根据权利要求1所述的控制三维模型贴图阵列的方法，其特征在于：所述间距参数（35）包括水平间距参数jx和垂直间距参数jy，用于设定模型表面显示的阵列中每个图案之间的横向间距和纵向间距。

5.根据权利要求1所述的控制三维模型贴图阵列的方法，其特征在于：所述的阵列个数参数（34）包括水平阵列个数参数rx和垂直阵列个数参数ry，用于设定模型表面显示的阵列的列数和行数。

6.根据权利要求1所述的控制三维模型贴图阵列的方法，其特征在于：所述的单图旋转参数（36），用于设定阵列中每一个贴图以自身为中心进行旋转的角度；而所述的阵列旋转参数（33），用于设定整个贴图阵列围绕阵列中心进行旋转的角度；两者配合使用还用于实现阵列旋转而单图反旋转从而保持单图对用户保持不旋转的效果。

7.根据权利要求1所述的控制三维模型贴图阵列的方法，其特征在于：所述的缩放参数（31）包括水平缩放参数sx和垂直缩放参数sy，使贴图的每个图案分别在水平和垂直方向进行缩放变形。

8.根据权利要求1所述的控制三维模型贴图阵列的方法，其特征在于：所述的阵列偏移参数（32）包括水平阵列偏移参数mx和垂直阵列偏移参数my，使整个阵列贴图在模型表面整体沿横向和纵向偏移指定的距离。

9.根据权利要求1所述的控制三维模型贴图阵列的方法，其特征在于：所述的单图偏移参数（37）包括水平单图偏移参数nx和垂直单图偏移参数ny，使阵列中的每一个单图在阵列的格子内沿横向和纵向偏移指定的距离。