[发明专利]掩膜版图的拆分方法在审
| 申请号： | 202210086427.2 | 申请日： | 2022-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN116540490A | 公开（公告）日： | 2023-08-04 |
| 发明（设计）人： | 张戈;严中稳;王晨 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（天津）有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/70 | 分类号： | G03F1/70;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 张瑞;徐文欣 |
| 地址： | 300385 天津市西*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 一种掩膜版图的拆分方法，包括：提供初始版图，初始版图上具有若干必拆分图形和若干自由图形；对初始版图进行第一拆分处理，使得若干必拆分图形形成在不同的初始掩膜版图上；将若干自由图形进行分类处理，以形成若干图形组；基于第一拆分处理，对初始版图进行第二拆分处理，将若干自由图形形成在不同的初始掩膜版图上，得到掩膜版图，不同掩膜版图中目标图形的总面积之差和/或不同掩膜版图中的图形密度之差满足预设条件。通过先将若干必拆分图形进行拆分处理，再将若干自由图形进行分类并单独拆分，根据对必拆分图形的拆分结果进行微调整，保证各掩膜版图中的图形面积、数量以及分布具有很好的平衡，进而提升曝光后的图形轮廓的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 版图 拆分 方法 | ||
【主权项】：
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- 专利分类
G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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