[发明专利]一种深紫外波段的硼酸铷钡双折射晶体及制备方法和用途

摘要

本发明涉及一种深紫外波段的硼酸铷钡双折射晶体及制备方法和用途，该晶体的化学式为Rb5Ba2B21O36，分子量为1505.02，属三斜晶系，空间群为P，晶胞参数为a=6.7686(7)Å，b=11.0035(12)Å，c=11.2465(11)Å，α=99.443(4)°，β=90.790(4)°，γ=99.855(4)°，Z=1，V=813.32(15)Å3，其结构中含有孤立的线性[BO2]‑基团。其透光范围为188‑3500nm，双折射率为0.06(3500nm)‑0.1(188 nm)之间。晶体易于生长、易于切割，易于研磨、易于抛光和易于保存；采用高温熔液法生长晶体。所获得的晶体在空气中稳定。能够用于制作各种用途的偏光棱镜，相位延迟器件和电光调制器件，例如，格兰棱镜、偏振分束器、补偿器、光隔离器环形器和光学调制器等，在光学和通讯领域有重要应用。