[发明专利]一种具有光谱选择性的日间辐射制冷块体材料及其制备方法、应用在审

专利信息
申请号: 202210054960.0 申请日: 2022-01-18
公开(公告)号: CN114349480A 公开(公告)日: 2022-04-15
发明(设计)人: 刘东青;万中伊欣;程海峰 申请(专利权)人: 中国人民解放军国防科技大学
主分类号: C04B35/04 分类号: C04B35/04;C04B35/01;C04B35/10;C04B35/453;C04B35/48;C04B35/50;C04B35/553;C04B35/622;C04B41/83;C09K5/14
代理公司: 长沙国科天河知识产权代理有限公司 43225 代理人: 陈俊好
地址: 410073 湖*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开一种具有光谱选择性的日间辐射制冷块体材料及其制备方法、应用,该日间辐射制冷块体材料,由保护层和辐射制冷功能层组成,保护层涂覆在所述辐射制冷功能层表面;保护层由高分子类成膜物质制备而成;辐射制冷功能层由氧化物块体材料制备而成,氧化物块体材料由无机氧化物制备而成,无机氧化物为氧化镁、氧化钡、氧化锆、氧化铈、氧化锌、氧化铝和氟化锂中的至少一种。本发明的日间辐射制冷块体材料在太阳光谱波段反射率超过95%,在8~13μm大气窗口波段高发射率,在2.5~8μm和13~25μm波段反射率较高。因此,本发明的日间辐射制冷材料对太阳辐射、大气逆辐射的吸收较少,可实现较好的制冷效果。
搜索关键词: 一种 具有 光谱 选择性 日间 辐射 制冷 块体 材料 及其 制备 方法 应用
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