[发明专利]一种具有光谱选择性的日间辐射制冷块体材料及其制备方法、应用

权利要求书

1.一种具有光谱选择性的日间辐射制冷块体材料，其特征在于，由保护层和辐射制冷功能层组成，所述保护层涂覆在所述辐射制冷功能层表面；

所述保护层由高分子类成膜物质制备而成；

所述辐射制冷功能层由氧化物块体材料制备而成，所述氧化物块体材料由无机氧化物制备而成，所述无机氧化物为氧化镁、氧化钡、氧化锆、氧化铈、氧化锌、氧化铝和氟化锂中的至少一种。

2.如权利要求1所述的日间辐射制冷块体材料，其特征在于，所述日间辐射制冷块体材料的孔隙率为2.5～3％，晶粒粒径≥5μm。

3.如权利要求1所述的日间辐射制冷块体材料，其特征在于，所述无机氧化物的中位径为0.5～1μm。

4.如权利要求1所述的日间辐射制冷块体材料，其特征在于，所述辐射制冷功能层的厚度为2～4mm。

5.如权利要求1所述的日间辐射制冷块体材料，其特征在于，所述保护层的厚度为8～45μm。

6.如权利要求5所述的日间辐射制冷块体材料，其特征在于，所述保护层的厚度为10～20μm。

7.如权利要求1所述的日间辐射制冷块体材料，其特征在于，所述高分子类成膜物质为聚氧化乙烯、水性聚氨酯和聚偏氟乙烯-六氟丙烯中的一种。

8.一种如权利要求1～7任一项所述的具有光谱选择性的日间辐射制冷块体材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1：称取无机氧化物，湿法球磨，干燥后过筛，干压成型，烧结，得到氧化物块体材料；

S2：称取高分子类成膜物质，加去离子水混合成浆，涂覆在所述氧化物块体材料表面，流平后烘干，得到日间辐射制冷块体材料。

9.如权利要求8所述的制备方法，其特征在于，在步骤S1中，所述湿法球磨的磨球、原料、溶剂的比例为1：1：1，溶剂为无水乙醇，球磨后得到粉体的中位径为0.5～1μm；

所述干压成型的压强范围40～55MPa；

所述烧结为无压烧结或者热压烧结；所述无压烧结为在空气气氛下以10℃/min的升温速度升至1500℃，在1500℃下保温0.5h，以10℃/min的降温速度从1500℃降至800℃后随炉降至室温；所述热压烧结的压力范围为30～50MPa，温度范围为800～1000℃，热压烧结时间为0.5h。

10.一种具有光谱选择性的日间辐射制冷块体材料的应用，其特征在于，将权利要求1～7任一项所述的日间辐射制冷块体材料或者权利要求8或9所述的制备方法制备得到的日间辐射制冷块体材料应用在建筑、冷凝制水和温差发电中。