[发明专利]可变电阻式存储器及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202210008310.2 申请日: 2022-01-05
公开(公告)号: CN116456725A 公开(公告)日: 2023-07-18
发明(设计)人: 刘奇青;黄智超;蔡世宁 申请(专利权)人: 华邦电子股份有限公司
主分类号: H10B63/00 分类号: H10B63/00;H01L23/528;H10N70/20
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 杨丹;沈珍珠
地址: 中国台*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明实施例提供一种可变电阻式存储器及其制造方法,其中该可变电阻式存储器包括:导线结构,分别设置于可变电阻式存储器的阵列区及周边电路区;以及存储器单元,设置于位于阵列区的导线结构上,且存储器单元包括:下电极,设置于导线结构上;电阻转态层,设置于下电极上;以及上电极,设置于电阻转态层上,其中导线结构的上表面与存储器单元的下电极直接接触。导线结构不通过导孔而直接与存储器单元接触,借此可以降低可变电阻式存储器内的串联电阻。如此一来,由于可以对所形成的可变电阻式存储器进行良好的成形操作,可以确保所形成的可变电阻式存储器具有改善的良率及效能。
搜索关键词: 可变 电阻 存储器 及其 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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