[发明专利]导电性二维粒子及其制造方法在审
| 申请号： | 202180053101.3 | 申请日： | 2021-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN116096669A | 公开（公告）日： | 2023-05-09 |
| 发明（设计）人： | 坂本宙树;小柳雅史;柳町章麿 | 申请（专利权）人： | 株式会社村田制作所 |
| 主分类号： | B82Y30/00 | 分类号： | B82Y30/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 韩聪 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： |
提供一种导电性二维粒子及其制造方法，氯与溴的含有率在一定以下，适合于无卤素用途，此外不使用粘合剂就能够形成高导电性薄膜。上述导电性二维粒子，是包含1个层、或包含1个层和多个层的层状材料的导电性二维粒子，其中，所述层包括：由下式：M |
||
| 搜索关键词： | 导电性 二维 粒子 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社村田制作所，未经株式会社村田制作所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202180053101.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
