[发明专利]用于对基底进行化学和/或电解表面处理的工艺流体的屏蔽体系统在审
| 申请号： | 202180037038.4 | 申请日： | 2021-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN115667590A | 公开（公告）日： | 2023-01-31 |
| 发明（设计）人： | 赫伯特·奥茨林格;玛瑞娜·科里施玛塔兰;哈罗德·奥科罗恩-施密特;安德烈亚斯·格莱斯纳 | 申请（专利权）人： | 塞姆西斯科有限责任公司 |
| 主分类号： | C25D5/02 | 分类号： | C25D5/02;C25D17/00;C25D21/10;C25D1/00 |
| 代理公司： | 上海知锦知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31327 | 代理人： | 潘彦君 |
| 地址： | 奥地利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于对基底进行化学和/或电解表面处理的工艺流体的屏蔽体系统，屏蔽体系统的用途，以及一种在工艺流体中对基底进行化学和/或电解表面处理的方法。屏蔽体系统包括屏蔽体和搅动单元。屏蔽体包括多个开口，用于将工艺流体流和/或电流密度分布导向待处理的基底。搅动单元被配置为相对于分配体垂直和/或水平地一起移动所述屏蔽体和所述基底。或者，也可以同时，搅动单元被配置为相对于用于化学和/或电解表面处理的沉积室垂直和/或水平地一起移动所述屏蔽体和所述基底。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 基底 进行 化学 电解 表面 处理 工艺 流体 屏蔽 体系 | ||
【主权项】：
暂无信息
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