[发明专利]大气压远程等离子体CVD装置、覆盖膜形成方法及塑料瓶制造方法在审

专利信息
申请号: 202180021746.9 申请日: 2021-03-23
公开(公告)号: CN115298353A 公开(公告)日: 2022-11-04
发明(设计)人: 西山优范;赤沼泰彦;铃木哲也;白仓昌;田中卓己;三家本琴乃 申请(专利权)人: 三得利控股株式会社
主分类号: C23C16/511 分类号: C23C16/511;H05H1/24
代理公司: 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 代理人: 洪俊梅;张淑珍
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种等离子体CVD装置及覆盖膜形成方法,在包括塑料瓶等具有立体形状的基材的各种基材的表面上,能够在大气压下形成覆盖膜。一个实施方式的大气压远程等离子体CVD装置具备:具有气体入口、内部空间和等离子体出口的电介体腔室;及在内部空间内产生等离子体的等离子体产生装置。等离子体出口具备喷嘴,该喷嘴具有比内部空间的正交于气体流动方向的截面的平均截面面积更小的开口面积。
搜索关键词: 大气压 远程 等离子体 cvd 装置 覆盖 形成 方法 塑料瓶 制造
【主权项】:
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