[发明专利]光学层叠体的制造方法在审
| 申请号： | 202180017403.5 | 申请日： | 2021-03-03 |
| 公开（公告）号： | CN115175806A | 公开（公告）日： | 2022-10-11 |
| 发明（设计）人： | 铃木嗣人;黄臻;铃木克利;渡边贵久;木伏祐子;小林智明 | 申请（专利权）人： | 迪睿合株式会社 |
| 主分类号： | B32B7/023 | 分类号： | B32B7/023;B32B9/00;B32B27/20;G02B1/11;G02B1/115;G02B1/14;G02B1/18;C23C14/06 |
| 代理公司： | 北京挚诚信奉知识产权代理有限公司 11338 | 代理人： | 严星铁;郭成周 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 该光学层叠体的制造方法是依次层叠透明基材、密合层、光学功能层和防污层而成的光学层叠体的制造方法，包括：密合层形成工序，形成密合层；光学功能层形成工序，形成光学功能层；表面处理工序，以下述(式1)所表示的表面粗糙度的变化率为1～25％的方式对前述光学功能层的表面进行处理；以及防污层形成工序，在进行了表面处理的前述光学功能层上形成防污层。表面粗糙度的变化率(％)＝((Ra2/Ra1)‑1)×100(％)···式(1)(式(1)中，Ra1表示处理表面之前的光学功能层的表面粗糙度(Ra)，Ra2表示处理表面之后的光学功能层的表面粗糙度(Ra))。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 层叠 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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