[发明专利]光学层叠体的制造方法

说明书

该光学层叠体的制造方法是依次层叠透明基材、密合层、光学功能层和防污层而成的光学层叠体的制造方法，包括：密合层形成工序，形成密合层；光学功能层形成工序，形成光学功能层；表面处理工序，以下述(式1)所表示的表面粗糙度的变化率为1～25％的方式对前述光学功能层的表面进行处理；以及防污层形成工序，在进行了表面处理的前述光学功能层上形成防污层。表面粗糙度的变化率(％)＝((Ra2/Ra1)‑1)×100(％)···式(1)(式(1)中，Ra1表示处理表面之前的光学功能层的表面粗糙度(Ra)，Ra2表示处理表面之后的光学功能层的表面粗糙度(Ra))。

技术领域

本发明涉及在表面具有防污层的光学层叠体以及具备该光学层叠体的物品、光学层叠体的制造方法。

本申请基于2020年3月4日在日本申请的日本特愿2020-037146号、2020年7月17日在日本申请的日本特愿2020-123317号、以及2021年3月2日在日本申请的日本特愿2021-32929号来主张优先权，在此引用其内容。

背景技术

例如，在平板显示器(FPD)、触摸面板、太阳能电池等中，作为光学层叠体，使用用于防止表面的反射的各种防反射膜。以往，作为防反射膜，提出了具备在透明基板上依次层叠高折射率层和低折射率层而成的多层膜的防反射膜。在这样的防反射膜的最外表面，通常以表面的保护、防污为目的而形成有防污层(表面保护层)。

近年来，防反射膜(光学层叠体)多用于智能手机、各种操作设备的触摸面板。由此，要求提高光学层叠体的耐磨损性。

例如，在专利文献1中公开了通过将防污层的构成材料中所含的氟量设为特定范围而提高了耐磨损性的透明基板层叠体。

专利文献2中记载了一种防污层的形成方法，其中，在形成防污层之前，对被处理基材上的至少单面进行预处理，在该预处理后的表面对防污层进行成膜。另外，专利文献2中记载了预处理为高频放电等离子体法、电子束法、离子束法、蒸镀法、溅射法、碱处理法、酸处理法、电晕处理法、大气压辉光放电等离子体法中的任一种。

专利文献3中记载了一种防污性光学物品的制造方法，其中，通过蒸镀在基板表面形成防反射膜后，导入氧或氩而进行等离子体处理，然后，对含氟有机硅化合物进行真空蒸镀而形成防污层。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：国际公开第2019/078313号

专利文献2：日本特开2006-175438号公报

专利文献3：日本特开2005-301208号公报

专利文献4：日本专利第6542970号公报

发明内容

发明所要解决的课题

然而，专利文献1所记载的透明基板层叠体存在如下课题：若反复摩擦，则会擦去有助于耐磨损性的未反应物，无法维持较高的耐磨损性。需要一种具备即使对于反复摩擦也能够维持高耐磨损性的防污层的光学层叠体。

本发明是鉴于上述问题而完成的，其目的在于提供具备即使对于反复摩擦也能够维持高耐磨损性的防污层的光学层叠体、以及具备该光学层叠体的物品、光学层叠体的制造方法。

用于解决课题的手段

为了解决上述课题，本发明提出以下手段。

[1]本发明的第一方式涉及的光学层叠体的制造方法是依次层叠透明基材、密合层、光学功能层和防污层而成的光学层叠体的制造方法，包括：

密合层形成工序，形成密合层；

光学功能层形成工序，形成光学功能层；