[发明专利]光学层叠体的制造方法

权利要求书

1.一种光学层叠体的制造方法，其是依次层叠透明基材、密合层、光学功能层和防污层而成的光学层叠体的制造方法，包括：

密合层形成工序，形成密合层；

光学功能层形成工序，形成光学功能层；

表面处理工序，以下述(式1)所表示的表面粗糙度的变化率为1～25％的方式对所述光学功能层的表面进行处理；以及

防污层形成工序，在经表面处理的所述光学功能层上形成防污层，

表面粗糙度的变化率(％)＝((Ra2/Ra1)-1)×100(％)···式(1)

式(1)中，Ra1表示处理表面之前的光学功能层的表面粗糙度(Ra)，Ra2表示处理表面之后的光学功能层的表面粗糙度(Ra)。

2.一种光学层叠体的制造方法，其是依次层叠透明基材、密合层、光学功能层和防污层而成的光学层叠体的制造方法，包括：

密合层形成工序，形成密合层；

光学功能层形成工序，形成光学功能层；

表面处理工序，对所述光学功能层的表面进行辉光放电处理；以及

防污层形成工序，在经表面处理的所述光学功能层上形成防污层。

3.根据权利要求1或2所述的光学层叠体的制造方法，其中，在所述密合层形成工序和所述光学功能层形成工序中，通过溅射来形成所述密合层和所述光学功能层。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的光学层叠体的制造方法，其中，在所述防污层形成工序中，通过真空蒸镀来形成所述防污层。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的光学层叠体的制造方法，其特征在于，在减压下连续地进行所述密合层形成工序、所述光学功能层形成工序、所述表面处理工序和所述防污层形成工序。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的光学层叠体的制造方法，其中，具有在所述密合层形成工序之前形成硬涂层的硬涂层形成工序。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的光学层叠体的制造方法，其中，所述光学功能层为选自防反射层、选择反射层和防眩层中的任一种。

8.根据权利要求1～7中任一项所述的光学层叠体的制造方法，其中，所述光学功能层具备低折射率层。

9.根据权利要求1～7中任一项所述的光学层叠体的制造方法，其中，所述光学功能层形成工序是将低折射率层与高折射率层交替层叠而形成层叠体的工序。

10.根据权利要求8或9所述的光学层叠体的制造方法，其中，在所述表面处理工序中，对所述低折射率层的表面进行处理。

11.根据权利要求7～10中任一项所述的光学层叠体的制造方法，其中，所述低折射率层包含Si的氧化物。