[发明专利]一种发光器件及其制备方法、发光基板及其制备方法在审
| 申请号： | 202180003142.1 | 申请日： | 2021-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN116368629A | 公开（公告）日： | 2023-06-30 |
| 发明（设计）人： | 赵加伟;马俊杰;熊志军;杨山伟;孙元浩;卢元达;李雪峤 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;京东方晶芯科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/10 | 分类号： | H01L33/10 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 解婷婷;曲鹏 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种发光器件及其制备方法、发光基板及其制备方法，发光器件包括衬底、设置在所述衬底上的发光功能层，以及设置在所述衬底上将至少部分所述发光功能层覆盖的反射层，所述反射层包括第一材料层和第二材料层，所述第一材料层与所述第二材料层沿所述衬底厚度方向叠层设置，所述第一材料层包括原子晶体材料，所述第一材料层位于所述第二材料层远离所述衬底的一侧，所述第一材料层远离所述第二材料层的一侧的表面形成为所述反射层远离所述衬底一侧的表面。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 发光 器件 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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