[实用新型]一种用于在真空状态下对镀层作出改性的离子源有效
| 申请号： | 202122794736.9 | 申请日： | 2021-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN216253322U | 公开（公告）日： | 2022-04-08 |
| 发明（设计）人： | 林正亮 | 申请（专利权）人： | 温岭市倍福机械设备制造有限公司 |
| 主分类号： | H05H1/26 | 分类号： | H05H1/26;H05H1/46 |
| 代理公司： | 浙江专橙律师事务所 33313 | 代理人： | 徐晓 |
| 地址： | 317500 浙江省台州市温*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种用于在真空状态下对镀层作出改性的离子源，属于薄膜上镀层制备技术领域。它解决了现有金属镀层表面粗糙度高，表面不平整的问题。本用于在真空状态下对镀层作出改性的离子源，该离子源包括离子源装置、精密气体流量控制装置、高压电线电缆和高频直流电源，离子源装置包括壳体，所述的壳体两对边分别设置有固定板一和固定板二，固定板一上开设有观察口，壳体内均匀分布有若干组磁性管，若干组磁性管内均设有磁钢，壳体的另外两对边均分别设有一组导向块。本实用新型具有提高金属镀层表面光滑性及平整度的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 真空 状态 镀层 作出 改性 离子源 | ||
【主权项】：
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