[实用新型]一种用于在真空状态下对镀层作出改性的离子源

说明书

本实用新型提供了一种用于在真空状态下对镀层作出改性的离子源，属于薄膜上镀层制备技术领域。它解决了现有金属镀层表面粗糙度高，表面不平整的问题。本用于在真空状态下对镀层作出改性的离子源，该离子源包括离子源装置、精密气体流量控制装置、高压电线电缆和高频直流电源，离子源装置包括壳体，所述的壳体两对边分别设置有固定板一和固定板二，固定板一上开设有观察口，壳体内均匀分布有若干组磁性管，若干组磁性管内均设有磁钢，壳体的另外两对边均分别设有一组导向块。本实用新型具有提高金属镀层表面光滑性及平整度的优点。

技术领域

本实用新型属于薄膜上镀层制备技术领域，涉及一种用于在真空状态下对镀层作出改性的离子源。

背景技术

工业技术中，电子枪对基材（薄膜）扫射，目的是使基材吸附于蒸镀鼓上，而电子枪在工作状态下会产生正、负电子，其中在微观情况下，负电子使基材能够吸附于蒸镀鼓表面上，而正电子吸附于基材上会导致基材厚度不均，原子聚集后的体积不一，导致金属镀层粗糙度高，金属镀层表面不平。

实用新型内容

本实用新型的目的是针对现有技术中存在的上述问题，提供了一种提高金属镀层表面光滑性及平整度的，并在真空状态下对镀层作出改性的离子源。

本实用新型的目的可通过下列技术方案来实现：一种用于在真空状态下对镀层作出改性的离子源，其特征在于，该离子源包括离子源装置、精密气体流量控制装置、高压电线电缆和高频直流电源，所述的离子源装置包括壳体，所述的壳体两对边分别设置有固定板一和固定板二，所述的固定板一上开设有观察口，所述的壳体内均匀分布有若干组磁性管，若干组所述磁性管内均设有磁钢，所述壳体的另外两对边均分别设有一组导向块。

在上述的一种用于在真空状态下对镀层作出改性的离子源中，所述的磁性管两端分别接有气体接头和电线接头。

在上述的一种用于在真空状态下对镀层作出改性的离子源中，所述磁性管接有电线接头的一端还设有具备绝缘和隔热、耐高温功能的陶瓷件。

在上述的一种用于在真空状态下对镀层作出改性的离子源中，所述的离子源装置还包括内置有冷却水的冷却结构。

与现有技术相比，本用于在真空状态下对镀层作出改性的离子源达到的有益效果：1、使金属镀层均匀性和致密性更好；2、和电子枪配合使用消除正电子作用；3、金属镀层表面平整度和光滑性更为突出。

附图说明

图1是离子源装置的部分剖视结构示意图。

图2是离子源装置的侧视结构示意图。

图中，1、壳体；2、固定板一；3、固定板二；4、观察口；5、磁性管；6、磁钢；7、导向块；8、气体接头；9、电线接头；10、陶瓷件。

具体实施方式

以下是本实用新型的具体实施例并结合附图，对本实用新型的技术方案作进一步的描述，但本实用新型并不限于这些实施例。

如图1、图2所示，本用于在真空状态下对镀层作出改性的离子源，该离子源包括离子源装置、精密气体流量控制装置、高压电线电缆和高频直流电源，离子源装置包括壳体1，壳体1两对边分别设置有固定板一2和固定板二3，固定板一2上开设有观察口4，壳体1内均匀分布有若干组磁性管5，若干组磁性管5内均设有磁钢6，壳体1的另外两对边均分别设有一组导向块7。

进一步细说，磁性管5两端分别接有气体接头8和电线接头9，电线接头9与高频直流电源联接。

优选的，磁性管5接有电线接头9的一端还设有具备绝缘和隔热、耐高温功能的陶瓷件10。

优选的，离子源装置还包括内置有冷却水的冷却结构。