[实用新型]一种用于在真空状态下对镀层作出改性的离子源有效
| 申请号： | 202122794736.9 | 申请日： | 2021-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN216253322U | 公开（公告）日： | 2022-04-08 |
| 发明（设计）人： | 林正亮 | 申请（专利权）人： | 温岭市倍福机械设备制造有限公司 |
| 主分类号： | H05H1/26 | 分类号： | H05H1/26;H05H1/46 |
| 代理公司： | 浙江专橙律师事务所 33313 | 代理人： | 徐晓 |
| 地址： | 317500 浙江省台州市温*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 真空 状态 镀层 作出 改性 离子源 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于在真空状态下对镀层作出改性的离子源，其特征在于，该离子源包括离子源装置、精密气体流量控制装置、高压电线电缆和高频直流电源，所述的离子源装置包括壳体（1），所述的壳体（1）两对边分别设置有固定板一（2）和固定板二（3），所述的固定板一（2）上开设有观察口（4），所述的壳体（1）内均匀分布有若干组磁性管（5），若干组所述磁性管（5）内均设有磁钢（6），所述壳体（1）的另外两对边均分别设有一组导向块（7）。
2.根据权利要求1所述的一种用于在真空状态下对镀层作出改性的离子源，其特征在于，所述的磁性管（5）两端分别接有气体接头（8）和电线接头（9）。
3.根据权利要求2所述的一种用于在真空状态下对镀层作出改性的离子源，其特征在于，所述磁性管（5）接有电线接头（9）的一端还设有具备绝缘和隔热、耐高温功能的陶瓷件（10）。
4.根据权利要求1所述的一种用于在真空状态下对镀层作出改性的离子源，其特征在于，所述的离子源装置还包括内置有冷却水的冷却结构。
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