[实用新型]基板处理装置用遮蔽件有效
申请号: | 202122181133.1 | 申请日: | 2021-09-09 |
公开(公告)号: | CN215869283U | 公开(公告)日: | 2022-02-18 |
发明(设计)人: | 森田慎也;中嶋诚世;村田慧 | 申请(专利权)人: | 株式会社国际电气 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32;C23C16/54;C23C16/50;C23C16/458;H01L21/67 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 陈伟;刘伟志 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本实用新型提供一种基板处理装置用遮蔽件,设置于基板处理装置的反应管的底部,防止从缓冲室供给的等离子体沿着相反侧的反应管的内表面向下流动而被排气,由此,能够改善晶舟的上下的基板处理的均匀性,并且,遮蔽加热器的辐射热,抑制与炉口部空间之间的气体的出入,能够提高炉口部的隔热性。该基板处理装置用遮蔽件具备:圆弧状的底板;从上述底板直立的多个支柱;以及由上述多个支柱沿垂直方向以多层支承的圆弧状的多个隔断板。 | ||
搜索关键词: | 处理 装置 遮蔽 | ||
【主权项】:
暂无信息
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