[实用新型]沉积设备有效
| 申请号： | 202122169904.5 | 申请日： | 2021-09-08 |
| 公开（公告）号： | CN216585183U | 公开（公告）日： | 2022-05-24 |
| 发明（设计）人： | 张齐;涂飞飞;詹昶;王新胜 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 姚璐华 |
| 地址： | 430074 湖北省武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本申请提供了一种沉积设备，所述沉积设备包括：反应腔室，所述反应腔室具有顶部以及环绕在所述顶部四周的侧壁；设置在所述反应腔室内的载物平台，所述载物平台用于放置待处理组件；设置在所述反应腔室外侧的线圈组件，所述线圈组件用于产生磁场，所述磁场用于控制所述反应腔室内等离子体，以在所述待处理组件表面进行沉积和溅射；设置在所述反应腔室外侧的磁场调节装置，所述磁场调节装置用于调节所述反应腔室内磁场的分布，提高所述反应腔室内电场和磁场的均匀性。本方案通过磁场调节装置调节在反应腔室内的电场和磁场分布均匀性，可以提高等离子体分布的均匀性，降低反应腔室内边缘区域与中心区域的等离子体密度差异，有利于提高工艺均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 设备 | ||
【主权项】：
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