[实用新型]一种提高镀膜均匀性的镀膜装置有效
| 申请号： | 202121867710.6 | 申请日： | 2021-08-10 |
| 公开（公告）号： | CN215365960U | 公开（公告）日： | 2021-12-31 |
| 发明（设计）人： | 龙何军 | 申请（专利权）人： | 中山众旺光学有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/50 |
| 代理公司： | 中山市捷凯专利商标代理事务所(特殊普通合伙) 44327 | 代理人： | 杨连华 |
| 地址： | 528400 广东省中山市火*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种提高镀膜均匀性的镀膜装置，包括加工箱体，所述加工箱体内设置有蒸发组件，围绕所述蒸发组件中心圆周布置有多个高度调节杆，所述高度调节杆上设置有面向所述蒸发组件中心的镜片组安装板，本实用新型解决了现有镀膜装置中存在的不足，通过本实用新型的结构设置，具备以下的优点，根据加工需求，在调节镜片离蒸发组件镀膜源之间距离时，能进一步的保证多个镜片距离镀膜蒸发源的长度接近，提高整体的镀膜均匀性，提高整体镜片镀膜的一致性，提高生产质量，且结构简单，使用方便。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提高 镀膜 均匀 装置 | ||
【主权项】：
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